温度均一技术在SEMI匀胶显影机上的应用 | 打破技术垄断，助力SEMI行业设备国产化进程

　　工艺介绍

　　涂胶显影仪是芯片制成光刻工艺段的重要设备，用于实现光刻胶的超薄胶膜。分为两个步骤:一是涂胶工艺:光刻胶通过胶头滴到晶圆表面，真空吸盘吸收晶圆高速旋转均匀涂胶。

　　二、均胶完成后，烘烤坚膜，通过加热盘挥发光刻胶中的有机溶剂，生成光刻胶的超薄膜。

　　课题

　　1.加热速度不统一，温差波动，

　　晶圆加热不均匀

　　一旦加热盘加热不均匀，光刻胶中的一些有机溶剂可能无法有效挥发，影响最终胶膜的质量。

　　2.人工调盘，过程复杂，耗时，

　　解决方案

　　通过平均温度控制技术，

　　实现高精度均匀加热

　　通过优化算法和MATLAB实现均匀加热的自动补偿算法(我们称之为均匀温度控制技术)，使各区域的温度控制精度达到±0.05℃，实现了温度均匀性R=0.275。

　　实验数据表明，温差可控制为原来的1/5

　　调整时间只需2秒，

　　完全取代人工调盘

　　只需简单设置，整个空间或表面就可以分布相同的指定量。实现了原需要人工调整的工作的全自动化，大大降低了人工成本的投资，减少了对熟练工人的依赖。

　　控制系统

　　机械自动化控制器NJ/NX系列

　　NX系列EtherCAT连接器单元

　　NX一系列温度输入单元

　　NX系列数字输出单元